无损检测Ⅲ级培训新渗透ppt课件.ppt

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1、第6章渗透检测方法渗透剂渗透剂的去除显像剂分类名称方法名称分类方法ⅠⅡⅢ荧光渗透检测着色渗透检测荧光、着色渗透检测ABCD水洗型亲油型后乳化溶剂去除型亲水型后乳化abcde干粉显像剂水溶解显像剂水悬浮显像剂溶剂悬浮显像剂自显像液体渗透检测方法主要分为着色渗透检测法和荧光渗透检测法；检测方法分类的依据是渗透剂种类、去除方法、显像方法，是三种方式的组合。具体见下表：16．1水洗型渗透检测法水洗型渗透检测法是广泛使用的渗透检测方法之一，它包括水洗型着色渗透检测法及水洗型荧光渗透检测法两种，其检测程序见图6—1。21．

2、水洗型渗透检测法适用的范围(1)灵敏度要求不高；(2)检验大体积或大面积的工件；(3)检验开口窄而深的缺陷；(4)检验表面很粗糙(例如砂型铸造)的工件；(5)检验螺纹工件和带有键槽的工件；工件的状态不同，缺陷种类不同，所需渗透时间不同。表6-1列出了水洗型荧光渗透检测推荐的渗透时间，也可供水洗型着色渗透检测时参考。实际渗透时间，需根据所用渗透剂型号，检验灵敏度要求或渗透剂制造厂推荐的渗透时间来具体制定；实际渗透时间还与渗透温度有关，当渗透温度改变较大时，应通过试验确定。不同的材料和不同的缺陷，不仅渗透时间不同，

3、而且显像时间也不同。水洗型渗透检测法所用渗透剂为水洗型渗透剂。一般不使用水悬浮式水溶解湿式显像剂；对于着色法一般不用干式和自显像，因为这两种显像方法均不能形成白色背景，对比度低，故灵敏度也较低。32．水洗型渗透检测法的优缺点(1)水洗型渗透检测法的优点1)表面多余的渗透剂可以直接用水去除，相对于后乳化型渗透检测方法，具有操作简便，检验费用低等优点。2)检测周期较其他方法短。能适应绝大多数类型的缺陷检测。如使用高灵敏度荧光渗透剂，可检出很细微的缺陷。3)较适合于表面粗糙的工件检测，也适用于螺纹类工件、窄缝和工件上

4、的销槽、盲孔内缺陷等的检测。(2)水洗型渗透检测法的缺点1)灵敏度相对较低，对浅而宽的缺陷容易漏检。2)重复检测时，再现性差，故不宜在复检的场合下使用。3)‘如清洗方法不当，易造成过清洗，例如，水洗时间过长、水温偏高或水压过大，都可能会将缺陷中的渗透剂清洗掉，降低缺陷的检出率。4)渗透剂的配方复杂。5)抗水污染的能力弱。特别是渗透剂中的含水量超过容水量时，会出现混浊、分离、沉淀及灵敏度下降等现象。6)酸的污染将影响检测的灵敏度，尤其是酸和铬酸盐的影响很大。这是因为酸和铬酸盐在没有水存在的情况下，不易与渗透剂的染

5、料发生化学反应，但当水存在时，易与染料发生化学反应，而水洗型渗透剂中含有乳化剂，易与水相混溶，故酸和铬酸盐对其影响较大。46．2后乳化型渗透检测法后乳化型渗透检测法也是广泛使用的渗透检测方法之一。这种方法除了多一道乳化工序外，其余与水洗型渗透检测程序完全一样；这种方法也包括后乳化型着色渗透检测法及后乳化型荧光渗透检测法两种。其中亲水型后乳化渗透检测程序见图6—2。1．后乳化型渗透检测法适用范围(1)表面阳极化工件，镀铬工件及复查工件；(2)有更高检测灵敏度要求的工件；(3)被酸或其他化学试剂污染的工件，而这些物

6、质会有害于水洗型渗透检测剂；(4)检验开口浅而宽的缺陷；(5)被检工件可能存在使用过程中被污物所污染的缺陷；(6)应力或晶界腐蚀裂纹类缺陷(使用最高灵敏度渗透检测剂)；(7)磨削裂纹缺陷；(8)灵敏度可控，以便在检测出有害缺陷的同时，非有害缺陷不连续能够被放过。5后乳化型渗透检测法也大量应用于经机加工的光洁工件的检验，例如，发电机的涡轮叶片、压气机叶片、涡轮盘及压气机盘等机加工工件的检验。这些工件在检验前最好能进行一次酸洗或碱洗，以去除工件表面约O．001～O．005mm的一薄层表面层金属，使被机加工堵塞的缺陷

7、重新露出。后乳化型渗透检测法因乳化剂不同(亲水型、亲油型)而分为亲水型后乳化渗透检测法及亲油型后乳化渗透检测法两种。亲水型后乳化渗透检测法的去除工序操作工艺为：预水洗’施加乳化剂一最终水洗一滴落余水。亲油型后乳化渗透检测法的去除工序操作工艺为：施加乳化剂一水洗一滴落余水。62．优缺点(1)后乳化型渗透检测法的优点1)具有较高的检测灵敏度。这是因为渗透剂中不含乳化剂，有利于渗透剂渗入表面开口的缺陷中去。另一方面，渗透剂中染料的浓度高，显示的荧光亮度(或颜色强度)比水洗型渗透剂高，故可发现更细微的缺陷。2)能检出浅

8、而宽的表面开口缺陷。这是因为在严格控制乳化时间的情况下，已渗入到浅而宽的缺陷中去的渗透剂不被乳化，从而不会被清洗掉。3)因渗透剂不含乳化剂，故渗透速度快，渗透时间比水洗型要短4)抗污染能力强，不易受水、酸和铬盐的污染。后乳化型渗透剂中不含乳化剂，不吸收水分，水进入后，将沉于槽底，故水、酸和铬盐对它的污染影响小。5)重复检验的再现性好。这是因为后乳化型渗透剂不含乳化剂，第一次检验后，残存