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时间:2019-08-07
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1、变温霍尔效应摘要:本实验我们研究了样品(锑化铟)的霍尔系数随温度的变化情况。实验中,我们利用液氮沸腾吸热原理和反馈加热的方法来控制样品的温度。通过测量不同温度下的霍尔电压来计算出变温情况下的霍尔系数,画出温度80-300k范围内样品的和曲线。并通过曲线来研究禁带宽度、载流子浓度、迁移率等特征。关键词:霍尔效应,霍尔电压,霍尔系数,禁带宽度,载流子浓度,迁移率。一.引言1879年,霍尔(E.H.Hall)在研究通有电流的导体在磁场中受力的情况时,发现在垂直于磁场和电流的方向上产生了电动势,这个电磁效应称为“霍尔效应”。在半导体材料中,霍尔效应比在金属中大几个数量级,引起人们对它
2、的深入研究。霍尔效应的研究在半导体理论的发展中起了重要的推动作用,直到现在,霍尔效应的测量仍是研究半导体性质的重要实验方法。利用霍尔效应,可以确定半导体的导电类型和载流子浓度,利用霍尔系数和电导率的联合测量,可以用来研究半导体的导电机构(本征导电和杂质导电)和散射机构(晶格散射和杂质散射),进一步确定半导体的迁移率、禁带宽度、杂质电离能等基本参数。测量霍尔系数随温度的变化,可以确定半导体的禁带宽度、杂质电离能及迁移率的温度特性。根据霍尔效应原理制成的霍尔器件,可用于磁场和功率测量,也可制成开关元件,在自动控制和信息处理等方面有着广泛的应用。二.实验原理1.半导体的能带结构和载
3、流子浓度没有人工掺杂的半导体称为本征半导体,本征半导体中的原子按照晶格有规则的排列,产生周期性势场。在这一周期势场的作用下,电子的能级展宽成准连续的能带。束缚在原子周围化学键上的电子能量较低,它们所形成的能级构成价带;脱离原子束缚后在晶体中自由运动的电子能量较高,构成导带,导带和价带之间存在的能带隙称为禁带。当绝对温度为0K时,电子全被束缚在原子上,导带能级上没有电子,而价带中的能级全被电子填满(所以价带也称为满带);随着温度升高,部分电子由于热运动脱离原子束缚,成为具有导带能量的电子,它在半导体中可以自由运动,产生导电性能,这就是电子导电;而电子脱离原子束缚后,在原来所在的
4、原子上留下一个带正电荷的电子的缺位,通常称为空穴,它所占据的能级就是原来电子在价带中所占据的能级。因为邻近原子上的电子随时可以来填补这个缺位,使这个缺位转移到相邻原子上去,形成空穴的自由运动,产生空穴导电。半导体的导电性质就是由导带中带负电荷的电子和价带中带正电荷的空穴的运动所形成的。这两种粒子统称载流子。本征半导体中的载流子称为本征载流子,它主要是由于从外界吸收热量后,将电子从价带激发到导带,其结果是导带中增加了一个电子而在价带出现了一个空穴,这一过程成为本征激发。所以,本征载流子(电子和空穴)总是成对出现的,它们的浓度相同,本征载流子浓度仅取决于材料的性质(如材料种类和禁
5、带宽度)及外界的温度。为了改变半导体的性质,常常进行人工掺杂。不同的掺杂将会改变半导体中电子或空穴的浓度。若所掺杂质的价态大于基质的价态,在和基质原子键合时就会多余出电子,这种电子很容易在外界能量(热、电、光能等)的作用下脱离原子的束缚成为自由运动的电子(导带电子),所以它的能级处在禁带中靠近导带底的位置(施主能级),这种杂质称为施主杂质。施主杂质中的电子进入导带的过程称为电离过程,离化后的施主杂质形成正电中心,它所放出的电子进入导带,使导带中的电子浓度远大于价带中空穴的浓度,因此,掺施主杂质的半导体呈现电子导电的性质,称为n型半导体。施主电离过程是施主能级上的电子跃迁到导带
6、并在导带中形成电子的过程,跃迁所需的能量就是施主电离能;反之,若所掺杂质的价态小于基质的价态,这种杂质是受主杂质,它的能级处在禁带中靠近价带顶的位置(受主能级),受主杂质很容易被离化,离化时从价带中吸引电子,变为负电中心,使价带中出现空穴,呈空穴导电性质,这样的半导体为p型半导体。受主电离时所需的能量就是受主电离能。当导带中的电子和价带中的空穴相遇后,电子重新填充原子中的空位,导致相应的电子和空穴消失,这过程叫就是电子和空穴的复合。在这一过程中,电子从高能态的导带回到低能态的价带,多余的能量以热辐射的形式(无辐射复合)或光辐射的形式(辐射复合)放出。从以上分析可以看出,载流子
7、的浓度和运动状态对半导体的导电性质和发光性质等起到关键的作用。载流子浓度随温度的变化可分为三个温区来讨论。以p型半导体为例:a)当温度较低时(几十k),只有很少受主电离,空穴浓度远小于受主浓度,产生的空穴浓度:式中NV为价带的有效能级密度,NA为受主杂质浓度。由(1)式得到:曲线基本上为直线,由斜率可得到受主电离能Ei。b)杂质全电离的饱和区。杂质全电离,本征激发尚未占主导地位。载流子浓度,与温度无关。c)本征激发为主的高温区,本征载流子浓度ni>>受主浓度NA。对硅材料,本征激发开始起作用的温度为~5
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