HIT电池中的TCO技术进展

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1、HIT电池中的TCO技术进展王文静中科院电工研究所中国科学院大学TCO的要求电学特性载流子收集和向前后金属的传递对于a-Si(n)和a-Si(p)的能带弯曲的优化(功函数匹配)与Ag或Cu的接触电阻低光学特性减反射透光率(300~1200nm),限制在IR处的吸收没有对a-Si层的损坏柔和的沉积条件(<200℃,无离子轰击)阻止金属杂质的扩散(Cu…)适合组件封装稳定性没有蜕化(空气、水汽)透明导电膜的矛盾TCO要求高电导率σ=Nμ——应该提高载流子浓度和迁移率,以提高电导率N的提

2、高会造成因自由载流子的等离子震荡而造成的在IR段的吸收(FCA)→高迁移率(μ)的材料→高FF+高Jsc目前大部分人使用的是ITO(InO:Sn)23In稀缺,很贵→无In材料透明导电膜的要求掺杂↓μ↑晶粒尺寸↑矛盾氧空位↓II体电阻↓掺杂↑N↑电阻↓氧空位↑σ=Nμ矛接触电阻↓ΔE↓功函数匹配盾I中短波透过率↑透过率↑长波N↓掺杂↓透过率↑一、TCO膜的光学特性ITO的晶体结构O空位:InO多出2个电子InO是方铁锰矿结构23-x23施主杂质一个晶胞中含16个化学式的InO:Sn掺杂:多出1个5S电子23

3、8个In3+处于b位置受主杂质O间隙:In2O3+x多出2个空穴24个处于d位置2Sn·O”——补偿Sn4+补偿导致中性杂质,未激活,降低迁移率,却没有对导电的贡献。TCO膜中的吸收过程对于费米能级在禁带中的半导体,吸收主要来自于:带间跃迁掺杂杂质到能带边的跃迁对于ITO,光损失来自于光吸收:带间跃迁光反射:带内跃迁—离子散射TCO的光损失模型带间跃迁强吸收T带内跃迁强反射R解释带内跃迁的标准模型共三种:OJL模型简谐振子理论Drude模型厚度为1.656微米的ITO薄膜的透射谱和反射谱吸收随迁移率的

4、变化提高迁移率可以减低长波吸收TCO薄膜在固定载流子浓度下,吸收随迁移率的变化不同的载流子浓度对于反射与吸收特性的影响??∞??????????=??????????????m*=0.35mceε=4.48∞????=1320nm1870nm2960nm降低电子浓度:提升透过率提高迁移率:降低长波吸收不同的ε∞的透射和反射率??∞??????????=??????????????m*=0.35mceε=3.5∞5.5Nc=5X1020cm-3μ=40cm2/Vs????=1650nm2070nm提高介电常数:降低

5、长波吸收改善ITO透明度的建议重掺杂,以增加有效带隙宽度,减小带间跃迁吸收。减小载流子浓度,增加振荡波长????在自由电子浓度较大的情况下如何降低载流子浓度:减少不稳定的氧缺陷杂质降低晶粒边界(增大晶粒)提高载流子的迁移率也可以降低ITO膜的吸收二、TCO膜的电学特性TCO膜的迁移率三种散射导致迁移率的下降:离化杂质散射(i)晶粒边界散射(g)声子散射(l)中性杂质的散射(n)离化杂质散射离化杂质散射的BHD(Brooks-Harring-Dingle)表达式:n—自由电子密度eF—屏蔽势in

6、i—离化杂质浓度Z—施主杂质荷电态掺杂浓度越高,受到散射的几率越大。离子散射迁移率与温度无关掺杂离子的荷电状态(Z)对载流子影响很大(1/Z2)其中:ε—真空介电常数;ε—相对介电常数0r如果:介质是无补偿的完全离化的半导体,则n=nie晶格散射晶界散射L为晶粒尺寸,Ф为晶界势(势垒高度),N为施主浓度,W为耗尽层宽度。晶粒b尺寸越大,晶界散射越小。晶界势越大,晶界散射越大。由于界面态处于费米能级E之下,因此界面态填充了电子,因此界面电荷等于两侧F耗尽区所载的电荷,eN=2eNw,N是界面陷阱态密度(典型值

7、为0.3-3.0X1013cm-2),TT因此有:典型的TCO掺杂浓度很高,平均自由程只有纳米量级,所以晶粒边界散射效应相对较小。其他散射晶格振动散射C为纵向弹性模量,Ed为形变势常数。常数:ZnO:210cm2/Vs;InO:250cm2/Vsl中性杂质散射n是电中性杂质的浓度,值越大,载流子迁移率越小。在重掺杂半导体中,温度N很低时,才起主要作用。在质量较好的ITO薄膜中,可以忽略。晶粒尺寸及界重掺杂情况下面电荷对迁移TCO膜的迁移率In2O3的迁移率率影响很大高于ZnO的M—BDH理论计算的杂质散射迁移率考

8、虑离化杂质散A—考虑晶粒边界散射(晶粒尺寸L=50nm,Q=1.5x1013cm-2)射和晶格散射的tB—考虑晶粒边界散射(晶粒尺寸L=50nm,Q=3.0x1013cm-2)维像曲线tSato理论边界上受主缺陷密度TCO的电学特性典型的TCO:n:1019-1021cm-3eμ:30—100cm2V-1s-1e对于相对较高的掺杂浓度(>2X1020cm-3),影响

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