磁控溅射镀膜方案.

《磁控溅射镀膜方案.》由会员上传分享，免费在线阅读，更多相关内容在工程资料-天天文库。

1、钛镍金磁控溅射镀膜方案一、实验目的1、详细掌握磁控溅射制备钛镍金薄膜的实验程序。2、掌握实验数据处理和分析方法，并对实验数据处理和分析。3、通过调整实验数据以及数据分析来确定磁控溅射镀膜厚度。4、通过实验得出镀1微米钛、1微米镍、0.5微米金的薄膜参数。二、实验原理磁控溅射的工作原理是指电子在电场E的作用下，在飞向基片过程中与氩原子发生碰撞，使其电离产生出Ar正离子和新的电子；新电子飞向基片，Ar离子在电场作用下加速飞向阴极靶，并以高能量轰击靶表面，使靶材发生溅射。在溅射粒子中，中性的靶原子或分子沉积在基片上

2、形成薄膜，而产生的二次电子会受到电场和磁场作用，产生E（电场）×B（磁场）所指的方向漂移，简称E×B漂移，其运动轨迹近似于一条摆线。若为环形磁场，则电子就以近似摆线形式在靶表面做圆周运动，它们的运动路径不仅很长，而且被束缚在靠近靶表面的等离子体区域内，并且在该区域中电离出大量的Ar来轰击靶材，从而实现了高的沉积速率。三、实验仪器、设备和材料磁控溅射镀膜机，手套，超声清洗机，氧化铝基片，玻璃基片，有机溶剂，钛镍金铝靶材等。四、实验步骤1、检查设备完好，确认水路正常，确定真空室已经处在抽真空的准备状态。2、基片的

3、清洗：清洗过程需要带手套防止污染基片，用镊子对基片进行拿取操作。（1）将基片放入装有洗涤液的超声清洗机中超声处理10min；（2）将基片放入装有丙酮溶液（AR）的超声清洗机中超声处理20min；（3）将基片放入装有去离子水的超声清洗机中超声处理10min；（4）用无水乙醇溶液（AR）对基片进行擦拭处理。（5）最后，将处理完的基片及时安装。3、打开放气阀，待没有气压时打开真空室门。根据本次实验更换相应的靶材并安装基片。4、关闭真空室门并关闭放气阀，开相关设备电源，并开冷却水和空压机。5、启动机械泵预抽真空2-3

4、min后，开启前级阀抽真空，打开复合真空计进行测量。待真空度低于50Pa启动分子泵。开烘烤电源对真空室内加热。6、用分子泵加机械泵对真空室连续抽真空，利用复合真空计监测真空室内的真空度。待真空室内本底真空度达到本次预期要求后，即可准备镀膜工作。7、打开进气阀，氩气瓶以及对应MCF控制阀打开流量显示仪电源，在面板上调节设定好进入气体的流量，打开氩气瓶和对应的MFC控制阀，MFC流量显示仪打到阀控位置，相应气体通入溅射室，同时溅射室的真空度会相应下降，压力上升。8、溅射室压力达到放电要求后，打开相应的电源，缓慢调

5、节直流溅射电源面板上的功率调节按纽，同时观察电流与电压的变化，调整到所需功率后既可。启动样品台，连续调节升降镀膜。9、停止溅射。先关溅射电源，然后关闭氩气瓶，关闭MFC控制阀，关闭进气阀，停止样品台。关闭烘烤电源，关闭分子泵电源，直到分子泵频率和转速都为0时，关闭前级阀，关闭机械泵。10、开放气阀，直至没有气流声，然后打开真空室门，取出样品，进行真空保存。关闭真空室并将其抽至低真空，然后关闭空压机水冷系统等，并切断总电源。按照此操作分别做7组实验，5组基片为100cmX100cm氧化铝的实验，2组基片为300

6、cmX150cm氧化铝的实验。先做5组镀铝实验数据尝试镀膜，拟定5组参数分别为：第一组第二组第三组第四组第五组真空度（10-3）44443MFC（sccm）2040204020镀膜时间（min）10105510温度（°C）200200200200200根据前一组实验数据以及测得的薄膜厚度、均匀性、附着力等最终决定后一组实验参数，待五组实验测量完毕，总结薄膜厚度与参数的关系，开始尝试镀钛镍金靶材。（附实验记录表）一、实验结果总结实验：编号：日期：镀膜材料：基片材料：时间真空度气体流量电压电流温度备注开启电源启动

7、机械泵打开前级阀开启分子泵通入气体开溅射电源停止溅射镀膜情况及问题：书是我们时代的生命——别林斯基　　　　书籍是巨大的力量——列宁　　　　书是人类进步的阶梯———高尔基　　　　书籍是人类知识的总统——莎士比亚　　　　书籍是人类思想的宝库——乌申斯基　　　　书籍——举世之宝——梭罗　　　　好的书籍是最贵重的珍宝——别林斯基　　　　书是唯一不死的东西——丘特　　　　书籍使人们成为宇宙的主人——巴甫连柯　　　　书中横卧着整个过去的灵魂——卡莱尔　　　　人的影响短暂而微弱，书的影响则广泛而深远——普希金　　　　人离开

8、了书，如同离开空气一样不能生活——科洛廖夫　　　　书不仅是生活，而且是现在、过去和未来文化生活的源泉——库法耶夫　　　　书籍把我们引入最美好的社会，使我们认识各个时代的伟大智者———史美尔斯　　　　书籍便是这种改造灵魂的工具。人类所需要的，是富有启发性的养料。而阅读，则正是这种养料———雨果