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1、物理气相沉积真空镀膜设备介绍（上海大学材料科学与工程学院电子信息材料系，上海200444）摘要：本文主要介绍了五类物理气相沉积的真空镀膜设备。五种设备分别为：电阻式蒸发装置、电子束蒸发装置、电弧蒸发装置、激光蒸发装置以及空心阴极蒸发装置。介绍了相关设备的原理，优缺点等。其中，着重列出了有关电子束蒸发装置的其中一个应用，是厚度为200μm左右的独立式的铁铬-Y2O3非晶态/晶态复合涂层的已经从基板温度500ºC左右的铁铬和氧化钇材料的电子束物理气相沉积产生。Abstract:Itdescribesthefivep
2、hysicalvapordepositionvacuumcoatingequipmentinthisarticle.Fivekindsofequipmentare:resistiveevaporationapparatus,anelectronbeamevaporationapparatus,arcevaporationapparatus,laserevaporationapparatusandahollowcathodeevaporationapparatus.Itintroducestheprinciple
3、ofrelatedequipment,advantagesanddisadvantages.Emphaticallyidentifiestheelectronbeamevaporationapparatusinwhichanapplication.ItisthatFreestandingFeCrAl-Y2O3amorphous/crystallinecompositecoatingwithathicknessofabout200nmhasbeenproducedfromelectron-beamphysical
4、vapordepositionofFeCrAlandyttriamaterialswithasubstratetemperatureof500℃around.关键词：电阻式蒸发装置、电子束蒸发装置、电弧蒸发装置、激光蒸发装置、空心阴极蒸发装置Keyword:Resistiveevaporationapparatus,anelectronbeamevaporationapparatus,arcevaporationapparatus,alaserevaporationapparatus,ahollowcathod
5、eevaporationdevice一、电阻式蒸发装置电阻式蒸发装置的电加热方法是钨丝热源，针对这种加热方式，其主要的特点在于：第一它主要用于块状材料的蒸发、可以在2200K下工作；其次就是有污染；但仪器操作简单、经济实惠。电阻式蒸发装置主要由难熔金属蒸发舟：W,Ta,Mo等材料制作，它一般用于粉末、块状材料的蒸发。利用大电流通过一个连接着靶材材料的电阻器,将产生非常高的温度,利用这个高温来升华靶材材料。通常使用钨(Tm=3380℃),钽Ta(Tm=2980℃),钼Mo(Tm=2630℃),高熔点又能产生高热的
6、金属,做成电阻器【1】。电阻式蒸发装置的加热方式对被蒸发的物质可以采取两种方法，即普通的电阻加热法和高频感应法。前者依靠缠于坩锅外的电阻丝实现加热，而后者依靠感应线圈在被加热的物质中或在坩锅中产生出感应电流来实现对蒸发物质的加热。在后者情况下，需要被加热的物质或坩锅本身具有一定的导电性。电阻器可以依被镀物工件形状,摆放方式,位置,腔体大小,旋转方式,而作成不同的形状。镀膜主要的考虑因素,是让靶材的蒸发分布均匀,能让工件上面的沉积薄膜厚度均匀,镀膜成品才能得到一致的光学功能。细丝状的金属靶材(Al,Ag,Au,C
7、r...)是最早被热蒸镀使用的靶材形式,后来则依不同需要,发展出舟状,篮状等各种形状的电阻器。如图1所示：针对电阻式蒸发装置，我们需要注意的是：（1）避免被蒸发物质与加热材料之间发生化学反应的可能性，可以考虑使用表面涂有一层Al2O3的加热体；（2）防止被加热物质的放气过程可能引起的物质飞溅。对于电阻式蒸发装置，其优点主要在于：（1）电阻式蒸镀机设备价格便宜,构造简单容易维护。（2）靶材可以依需要,做成各种的形状。相对的，电阻式蒸发装置其缺点也是蛮多的：（1）因为热量及温度是由电阻器产生,并传导至靶材,电阻器本
8、身的材料难免会在过程中参加反应,因此会有些微的污染,造成蒸发膜层纯度稍差,伤害膜层的质量。（2）热阻式蒸镀比较适合金属材料的靶材,光学镀膜常用的介电质材料,因为氧化物所需熔点温度更高,大部分都无法使用电阻式加温来蒸发。（3）蒸镀的速率比较慢,且不易控制。（4）化合物的靶材,可能会因为高温而被分解,只有小部分化合物靶材可以被闪燃蒸镀使用。（5）电阻式蒸镀的膜层硬度比较差,密度比较低。因此
