利用等离子体表面预处理改善光掩模ip胶显影工艺特性

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1、图片目录图1从光掩模到硅片曝光.........................................................................................2图2光刻掩模版制造工艺示意图.............................................................................3图3光刻掩模版加工生产的基本流程.....................................................................4图4以Novola

2、c为基底的DNQ型胶的化学特性...................................................7图5等离子体物理反应系统示意图.........................................................................9图6由于IP胶显影不充分造成的CONTACTLAYER的典型缺陷....................11图7液体在基底上的接触角对比....................................................................

3、.......15图8接触角和亲水性的关系...................................................................................16[10]图9胶体分层显影的实验模型...........................................................................17[10]图10DNQ胶表面粗糙度与显影分解速率的实验结果....................................18图11光刻胶显影的Mack模型...........

4、...................................................................19图12工艺流程示意图.............................................................................................21图13不同表面接触角的测量方法.........................................................................22图14IP胶与去离子水及显影液的接触角.........

5、....................................................23图15经等离子表面预处理后的IP胶与去离子水及显影液的接触角...............24图16Starlight检查掩模版的表面污染点分布采用等离子处理前.....................27图17Starlight检查掩模版的表面污染点分布采用等离子处理后.....................28图18显影后121点线宽误差范围图（未加等离子处理的线宽均匀性）.......29图19显影后121点线宽误差范围图（增加等离子处理的线宽均匀性）......

6、.29图20显影后线宽径向的偏差图未加等离子处理的工艺后线宽在径向偏差...30图21显影后线宽径向的偏差图增加等离子处理的工艺后线宽在径向的偏差31图221um光栅掩模版中存在铬点缺陷(KLA3514000x透射光拍摄)..............34图23接触孔掩模版图形刻蚀后照片（孔尺寸1.75X1.75um）未经等离子体表面预处理................................................................................................................34图24接触孔掩模

7、版图形刻蚀后照片（孔尺寸1.75X1.75um）经等离子体表面预处理....................................................................................................................35图25各100片掩模版生产数据结果对比.............................................................35表格目录表1等离子体表面预处