晶岭高科技有限公司商业计划书

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1、-4-晶岭高科技有限公司商业计划书呈送：投资方版本号：Version2.2二零一六年七月二十八日-4-保密承诺本计划书涉及公司商业机密，所有权属于零点科技湖北分公司，其所涉及的内容和资料只限于与本项目有意向的合作伙伴传阅，在您收到本计划书后，应立刻确认，并请遵守：1、未经本公司书面授权，严禁将本计划书部分或全部拷贝、影印、复印、散发给第三方，也不得向第三方泄露本计划书涉及的部分或全部内容。2、若您确认放弃本计划书涉及项目，请您及时将本计划书归还本公司，或将本计划书作适当处理。3、本承诺书一式两份，请您像对待贵公司的商业机密一样对待本

2、计划书提供的所有机密资料，否则将追究相关法律责任。投资单位盖章:接收经理签字：接收日期：_______年____月____日-4-保密条款保密须知本商业计划书属商业机密，所有权属于天津晶岭高科技有限公司。其所涉及的内容和资料只限于已签署投资意向的投资者使用。收到本计划书后，收件人应即刻确认，并遵守以下的规定：1.若收件人不希望涉足本计划书所述项目，请按上述地址尽快将本计划书完整退回；2.在没有取得天津晶岭高科技有限公司的书面同意前，收件人不得将本计划书全部或部分地予以复制、传递给他人、影印、泄露或散布给他人；3.应该象对待贵公司的机

3、密资料一样的态度对待本计划书所提供的所有机密资料。本商业计划书不可用作销售报价使用，也不可用作购买时的报价使用。商业计划编号：JLKJ20030001收件方：签字：日期：-4-目录第一章、摘要11.1本商业的简单描述11.2机会概述11.3目标市场的描述和预测11.4竞争优势21.5经济状况和盈利能力预测21.6团队优势21.7商业计划目标31.7.1总体目标：31.7.2经济目标：31.7.3技术、质量指标：31.7.4阶段目标：31.7.5进展情况：31.8提供的利益31.9实施的风险31.10资本结构41.11资本退出4第二章

4、、产业背景与公司概述52.1产业背景52.1.1市场描述52.1.2主要的竞争对手52.1.3市场驱动力62.2公司概述72.2.1公司名称及选址72.2.2公司性质72.2.3注册资本72.2.4公司简介72.2.5企业目标7-4-2.2.6公司产品82.2.7知识产权情况92.2.8技术成熟性和产品可靠性论述92.2.9环境保证与劳动安全102.2.10特殊行业许可证报批情况102.3市场开发策略10第三章、市场调查和分析113.1客户113.2市场容量和趋势123.3同类产品指标对比123.4原材料供应143.5竞争与竞争优势

5、143.5.1进入障碍分析143.5.2竞争优势143.5.3竞争对手分析16第四章、公司管理与战略174.1竞争战略选择174.2发展战略174.3管理体系174.3.1组织结构174.3.2人力资源规划与管理184.3.3销售体系管理204.4营销策划214.4.1目标市场214.4.2市场定位214.4.3市场营销目标224.4.4营销策略224.4.5服务体系254.5企业资源的立体整合26第五章、总体进度安排28-4-第六章、投资风险296.1风险因素296.2风险应对策略30第七章、管理团队317.1团队介绍317.2核

6、心人员情况317.3科研机构32第八章、投资估算与资金运用338.1固定资产投资合计3300万元338.2流动资金可支持公司三年正常运营合计1735万元348.3总体资金需求合计5035万元35第九章、财务计划与预测369.1财务管理目标369.2财务管理原则369.3财务数据分析369.3.1财务分析基本数据测算369.3.2财务评价42第十章、提供的利益4410.1资金需求及股权分配4410.2投资回报4410.3投资退出策略44附件1:技术专利46附件2:公司章程47附件3：厂区布置图52商业计划书-摘要-4-第一章、摘要1.

7、1本商业计划的简单描述本商业计划所涉及的项目属微电子技术与基础材料相关领域，以河北工业大学微电子研究所为依托，历时20年研发，主要为从事微电子材料抛光液与清洗剂的开发应用、生产以及销售。以改进微电子产品生产工艺、提高其产品质量、降低其生产成本为目的。2000年，该项目曾获得国家科技部科技型中小企业创新基金100万元；2001年，获得天津市“十五”重大攻关项目无偿资助100万元。生产产品主要包括：Ø以“FA/O超大规模集成电路（ULSI）多层布线介质及铜布线化学机械全局平面化（CMP）纳米磨料抛光液”为代表的国际首例高技术产品；Ø以“

8、FA/O集成电路衬底硅片纳米磨料抛光液”、“FA/O电子材料清洗剂、半导体材料切削液、倒角液、磨削液、活性剂”为代表的高技术更新换代产品。产品主要应用于超大规模集成电路（ULSI）衬底半导体材料、半导体器件、正扩大应用于电视机玻壳，液