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1、.本科毕业设计（论文）硅片自旋转磨削工艺规律研究学院机电工程学院专业机械设计制造及其自动化(机械电子方向）年级班别2008级(2)班学号3018000383学生姓名王展浩指导教师魏昕2012年5月21日-..硅片自旋转磨削工艺规律研究王展浩机电工程学院硅片自旋转磨削工艺规律研究王展浩机电工程学院-..摘要单晶硅片是集成电路(IC)制造过程中最常用的衬底材料，硅片的表面层质量直接影响着器件的性能、成品率以及寿命。随着硅片尺寸的增大，新的硅片高效超精密平整化加工工艺得到了大量的研究。其中，具有高效率、高精度
2、、低损伤等优点的硅片自旋转磨削技术正逐步成为抛光硅片和图形硅片背面减薄的主流加工技术。本文利用基于自旋转磨削原理的硅片超精密磨床，通过试验研究了砂轮磨粒粒度、砂轮进给速度和砂轮转速等主要因素对磨削后硅片的磨削力和表面质量的的影响关系。关键词：硅片,磨削,砂轮,磨床,自旋转磨削注：本设计题目来源于教师的国家级科研项目，项目编号为：U0734008。-..AbstractSiliconintegratedcircuit(IC)manufacturingprocessmostcommonlyusedinthe
3、substratematerial,siliconwafersurfacequalitydirectlyaffectstheperformanceofthedevice,therateoffinishedproductsandlife.Alongwiththeincreaseofthesiliconwafersizes,newsiliconwaferefficientprocessingtechnologyoftheultraprecisionlevelofftogetalotofresearch.Am
4、ongthem,withhighefficiency,highprecision,lowdamageandotheradvantagesofthewaferrotationgrindingtechnologyisgraduallybecomingthepolishingofsiliconwaferandwaferbacksidethinningofthemainstreamgraphicsprocessingtechnology.Basedontherotationprincipleofgrinding
5、siliconwaferultra-precisiongrinder,grindingparticlesizewasstudiedbyexperiment,thegrindingwheelspeedandthespeedofthegrindingwheelmainfactorsongrindingwafergrindingforceandsurfacequalityofrelationship.Keywords:Siliconwafer,Grinding,Thegrindingwheel,Grindin
6、gmachine,Self-rotatinggrinding-..目录1绪论11.1前言11.2硅片超精密磨削的现状11.2.1国外现状11.2.2国内现状21.3硅片超精密磨削的发展趋势31.4硅片自旋转磨削的原理41.5本文研究的主要内容52硅片自旋转磨削加工的实验设计62.1实验设备的介绍62.2工件的介绍62.3砂轮的选择82.4工艺参数的选择92.4.1砂轮轴向进给的速度92.4.2砂轮的转速102.5检测方法和设备102.6本章小结123磨削参数对磨削力的影响的试验研究133.1磨削工艺参数
7、对磨削力的影响133.1.1磨粒粒径对磨削力的影响133.1.2砂轮进给速度对磨削力的影响133.1.3砂轮转速对磨削力的影响143.2建立磨削力经验公式143.2.1角正回归理论143.2.2磨削力的角正回归法建模153.3本章小结164磨削参数对硅片表面质量的影响的试验研究17-..4.1磨削工艺参数对磨削后硅片表面粗糙度的影响174.1.1磨粒粒径对硅片表面粗糙度的影响174.1.2砂轮进给速度对硅片表面粗糙度的影响184.1.3砂轮转速对硅片表面粗糙度的影响204.2磨削参数对磨削后硅片表面形貌
8、的影响204.2.1磨粒粒径对硅片表面形貌的影响204.2.2砂轮进给速度对硅片表面形貌的影响224.2.3砂轮转速对硅片表面形貌的影响244.3本章小结26结论27参考文献29致谢31-..1绪论1.1前言进入21世纪，硅材料从工艺上说已经成为电子设备中最重要的半导体材料，同时它也被用于微电子工业，而且还越来越多用于能量和机械方面。因此制造商从经济效益方面考虑，致力于提高硅的生产加工技术得以更平整、更高质量的衬底材料和高精度的光学元件，以
