材料工程技术瓶颈被打破，中国半导体设备研发将进入加速通道.doc

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1、材料工程技术瓶颈被打破，中国半导体设备研发将进入加速通道　　半导体设备商应用材料（AppliedMaterials）日前宣布，材料工程获得技术突破，能在大数据与人工智能（AI）时代加速芯片效能。应用材料表示，20年来首桩晶体管接点与导线的重大金属材料变革，能解除7纳米及以下晶圆工艺主要的效能瓶颈，由于钨（W）在晶体管接点的电性表现与铜（Cu）的局部终端金属导线工艺都已逼近物理极限，成为FinFET无法完全发挥效能的瓶颈，因此芯片设计者在7纳米以下能以钴（Co）金属取代钨与铜，藉以增进15%芯片效能。　　　　采用钴可优化先进工艺金属填充情形，延续

2、7纳米以下工艺微缩　　钨和铜是目前先进工艺采用的重要金属材料，然而钨和铜与绝缘层附着力差，因此都需要衬层（LinerLayer）增加金属与绝缘层间的附着力；此外，为了避免阻止钨及铜原子扩散至绝缘层而影响芯片电性，必须有障壁层（BarrierLayer）存在。　　　　随着工艺微缩至20纳米以下，以钨Contact（金属导线及晶体管间的连接通道称为Contact，由于Contact实际形状为非常贴近圆柱体的圆锥体，因此ContactCD一般指的是Contact直径）工艺为例，20纳米的ContactCD中，Barrier就占8纳米，Contact中

3、实际金属层为12纳米（MetalFill8nm＋Nucleation4nm），ContactCD为10纳米时，实际金属层仅剩2纳米，以此估算ContactCD为8纳米时将没有金属层的容纳空间，此时衬层及障壁层的厚度成了工艺微缩瓶颈。然而同样10纳米的ContactCD若采用钴（如下图），其障壁层仅4纳米，而实际金属层有6纳米，相较于采用钨更有潜力在7纳米以下工艺持续发展。　　　　金属材料变革将影响中国半导体设备的研发方向　　目前中国半导体设备以蚀刻、薄膜及CMP发展脚步最快，此部分将以打入主流厂商产线、取得认证并藉此建立量产数据为目标，朝向打入

4、先进工艺的前段晶体管工艺之远期目标相当明确，然而相较国际主流半导体设备厂商的技术水平，中国半导体设备厂商仍是追随者角色，因此钴取代钨和铜的趋势确立，将影响中国半导体设备厂商尤其是蚀刻、薄膜及CMP的研究发展方向。