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时间:2018-12-03
《电子科大课堂讲义模拟电路1序言》由会员上传分享,免费在线阅读,更多相关内容在教育资源-天天文库。
1、引言各种电子设备由一些特定功能的电路组成,而完成一定功能的电路必含电子器件。含有电子器件的电路称为电子电路,包括模拟电子电路和数字电子电路。模拟电路:处理的电信号是一种时间的连续信号(模拟信号)。按电路中电子器件的工作状态可分为线性电路;非线性电路。按其处理的信号频率可分为低频电路;高频电路;微波电路。本课程为低频线性模拟电路。数字电路处理的信号为数字信号,是只有高、低两种电平的非连续信号。其优点为抗干扰性强,信号便于储存。数字电路中管子(器件)工作在开关状态。电子器件的时代划分第一代:电真空器件(电子管、离
2、子管)第二代:半导体器件(晶体管、场效应管)第三代:集成电路(由小规模、中规模、大规模向超大规模方向发展)。电子电路的核心是电子器件,电子器件的更新换代带动了电子电路的更新发展。第一章晶体二极管及应用电路1-1半导体材料及导电特性物质按导电能力分为导体、半导体、绝缘体。用于制造半导体器件的半导体材料主要是硅(Si)和锗(Ge),它们具有晶体结构,故半导体器件又称为晶体管。一、本征半导体完全纯净、没有结构缺陷的半导体单晶。Si和Ge原子结构模型Si和Ge的晶体结构原子按四角形系统组成晶体点阵。每个原子处于正方体
3、中心,其它四个原子处于四方体顶点。每个原子与相邻四个原子形成共价键,共用一个价电子,通过共价键与相邻原子牢固相联。在绝对零度(-273oC)并且无外界能量时,价电子被束缚在共价键中,半导体中不存在自由电子,半导体不导电。当温度升高(热激发)或光照射(光激发),部分价电子获得能量挣脱共价键成为自由电子(带一个单位负电荷),同时共价键中留下相同数量的空位(空穴,带一个单位的正电荷)。本征激发:本征半导体在外界能量激发下,成对地产生电子-空穴对的物理现象。空穴的移动:空穴的运动是靠相邻共价键中的价电子依次填补空穴来
4、实现的,故空穴可参与导电。无外加电场时,自由电子、空穴的运动杂乱无章。外加电场时,自由电子逆电场、空穴顺电场方向运动,分别形成电子电流和空穴电流。载流子:运载电荷的粒子。半导体导电的特点:半导体中有两种载流子(自由电子、空穴)。电子-空穴对的复合:电子、空穴在运动中相遇重新结合而使电子-空穴对消失的过程。载流子的产生与复合本征半导体中同时存在载流子产生与复合过程。在一定温度下,二者达到动态平衡,使半导体中的载流子浓度保持一定值;温度变化时,则在新温度下达到新的浓度。本征浓度:平衡状态下本征半导体单位体积内自由
5、电子或空穴数。常温下本征浓度远小于原子密度,因此本征半导体导电能力很弱。在相同温度下,Ge材料的本征浓度﹥﹥Si材料的本征浓度。1、N型半导体(n-semiconductor)二、杂质半导体在本征半导体中,人为掺入微量三价或五价元素构成杂质半导体,杂质半导体的导电性能不再决定于温度,而由杂质类型和数量决定。按照杂质半导体的导电类型将其分为N型半导体和P型半导体。由于五价元素的原子可提供自由电子,故这种杂质称为施主杂质。N型半导体中两种载流子构成:自由电子=掺杂(主要)+本征激发空穴=本征激发自由电子称为多数载
6、流子,空穴称为少数载流子。导电主要靠自由电子,而电子带负电荷(negativeelectriccharge)故得其名。∵自由电子数=空穴数+正离子数故N型半导体本身呈电中性。2、P型半导体(p-semiconductor)在本征半导体中,掺入微量三价元素如硼,可使晶体中空穴浓度大大增加。由于每一个三价元素的杂质原子都能接受一个价电子而成为负离子,故称三价元素为受主杂质。P型半导体中两种载流子构成:空穴=掺杂(主要)+本征激发自由电子=本征激发空穴称为多数载流子,自由电子称为少数载流子。P型半导体主要靠空穴导电
7、,而空穴带正电荷(positiveelectriccharge)故得其名。P型半导体本身也呈电中性:空穴数=自由电子数+负离子数杂质半导体的载流子浓度设杂质半导体产生—复合达到平衡时,自由电子浓度为no,空穴浓度为po,同一温度下本征浓度为ni,则nopo=ni2。常温下,多子浓度>>本征浓度少子浓度<<本征浓度杂质半导体利用多子导电即“杂质导电”特性,是半导体器件正常工作的内在条件。三、漂移电流与扩散电流半导体中载流子定向运动有两种方式:漂移运动扩散运动只有在这两种情况下,半导体内部才能形成定向电流:(一)
8、在电场作用下,载流子产生定向迁移运动形成漂移电流:I漂∝电场强度、载流子浓度;(二)由于载流子浓度分布不均匀,载流子从浓度高向浓度低的方向扩散运动形成扩散电流:I扩∝浓度梯度(浓度差)。1-2PN结原理PN结是构成半导体二极管、三极管等半导体器件的基本组成部分。1、PN结的形成在一块本征半导体两侧,通过掺入不同杂质,分别形成形成N型半导体和P型半导体。在二者交界面上形成如下物理过程:因浓度差,故P区
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