深圳宇众环保碱性蚀刻液直接电解设备

深圳宇众环保碱性蚀刻液直接电解设备

ID:1575434

大小:367.50 KB

页数:9页

时间:2017-11-12

深圳宇众环保碱性蚀刻液直接电解设备_第1页
深圳宇众环保碱性蚀刻液直接电解设备_第2页
深圳宇众环保碱性蚀刻液直接电解设备_第3页
深圳宇众环保碱性蚀刻液直接电解设备_第4页
深圳宇众环保碱性蚀刻液直接电解设备_第5页
资源描述:

《深圳宇众环保碱性蚀刻液直接电解设备》由会员上传分享,免费在线阅读,更多相关内容在教育资源-天天文库

1、深圳宇众环保碱性蚀刻液直接电解设备1.再生原理2.电解设备3.蚀刻参数4.电解原理5.物料消耗6.效益分析7.设备清单深圳市宇众环保科技有限公司二O一二年6月1日固定电话:86-0755-29873708 传真:0755-29873708移动电话:18025346488凡许强办公地址: 广东省深圳市宝安区沙井镇上寮5区新沙路丰盛大厦808网址:    http://www.szyzhb.com ; 邮箱:  yzhb@szyzhb.com       碱性蚀刻液直接电解再生原理  印制电路板(PCB)加工的典型工艺采用"图形电镀法"

2、。即先在板子外层需保留的铜箔部分上(是电路的图形部分)预镀一层铅锡抗蚀层,然后用化学方式将其余的铜箔腐蚀掉,称为蚀刻。  在蚀刻过程中,板面上的铜被[Cu(NH3)4]2+络离子氧化,其蚀刻反应如下:  Cu(NH3)4Cl2+Cu→2Cu(NH3)2Cl  所生成的[Cu(NH3)2]1+为Cu1+的络离子,不具有蚀刻能力。在有过量NH3和Cl-的情况下,能很快地被空气中的O2所氧化,生成具有蚀刻能力的[Cu(NH3)4]2+络离子,其再生反应如下:  2Cu(NH3)2Cl+2NH4Cl+2NH3+1/2O2→2Cu(NH3)4

3、Cl2+H2O  从上述反应可看出,每蚀刻1克分子铜需要消耗2克分子氨和2克分子氯化铵。因此,在蚀刻过程中,随着铜的溶解,要不断补加氨水和氯化铵,因而蚀刻槽母液会不断增加。由于所生成的[Cu(NH3)2]1+为Cu1+的络离子,不具有蚀刻能力,所以必须排除部分母液,增加新的子液(子液不含铜离子)来满足蚀刻要求。  蚀刻液再生:实际上是印制电路板(PCB)蚀刻线上排出的蚀刻母液采用封闭式循环系统,经蚀刻液再生循环设备将其中的铜离子萃取出来再返回生产线的过程。碱性蚀刻废液再生系统原理:在线路板的蚀刻过程中,蚀刻液中的铜离子浓度会逐渐升高

4、而降低蚀刻效果,要使蚀刻液达到最佳的蚀刻效果,就必须将蚀刻液中的铜离子(Cu2+)、氯离子(Cl-)和PH值保持在一个合理稳定的范围内,要持续蚀刻液中上述各种成份的最佳浓度,就需不断添加子液来取代已失去蚀刻能力的『废蚀刻液』。而该系统则可将原本需要排放的『废蚀刻液』再生成为新子液即『再生蚀刻液』,它只需添加极少量的补充剂,补偿因蚀刻过程中损失的部分就可以循环使用。同时还回收氨洗水,将氨洗水再生后循环利用。电解设备  该系统是一套高科技、环保型设备。专门为处理碱性蚀刻废液而设计的全封闭式系统,无任何废水、废物排放。该系统不仅能将废蚀刻

5、液再生并返回蚀刻线使用,还能为蚀刻工作线提供稳定的蚀刻效果,更能创造巨大的经济利益和环保效益。该系统与蚀刻机相互连接后,自动循环运作,进行蚀刻液和氨洗水的回收及再生工作。实现污染零排放并产出纯度高,价值高的电解金属铜(99.68%)。  主要功能和特点  ①将废蚀刻液进行再生,经再生后的蚀刻液可以循环再生使用;  ②将废蚀刻液和氨洗水的铜离子进行回收,还原成高纯度电解铜;  ③该设备操作维护简单,在安装调试过程中不影响生产,安装调试完毕即可投入使用。  在电子线路版(PCB)蚀刻过程中,蚀刻液中的铜含量渐渐增加。蚀刻液要达到最佳的蚀

6、刻效果,每公升蚀刻液需含120至180克铜及相应分量的蚀刻盐(NH4CI)及氨水(NH3)。要持续蚀刻液中上述各种成份的浓度最佳水平,蚀刻用过后的(以下称[用后蚀刻液])溶液需不断由添加的药剂所取缔。本系统主要应用溶剂萃取法,可以在回收铜的同时回收蚀刻剂,将大量原本需要排放的[用后蚀刻液]再生还原成为可再次使用的[再生蚀刻液]。只需极少量的补充剂及氨水,补偿因运作时被[带走]而失去的部份。从而取代蚀刻子液,该工艺不但可以减少蚀刻废液回收后的污水排放量,减少环境污染,同时还可以降低PCB厂家的生产成本。  使用本系统的主要效益  1.

7、再生液可回收利用,节省物料,降低生产成本。  2.再生液可回收利用,降低治理污水成本。  3.响应国家政策,节能减排,污染基本为零排放,。  4.做到清洁生产,降低工厂环保压力。蚀刻参数碱性氯化铜蚀刻液1.特性 1)适用于图形电镀金属抗蚀层,如镀覆金、镍、锡铅合金,锡镍合金及锡的印制板的蚀刻。2)蚀刻速率快,侧蚀小,溶铜能力高,蚀刻速率容易控制。3)蚀刻液可以连续再生循环使用,成本低。2.蚀刻过程中的主要化学反应在氯化铜溶液中加入氨水,发生络合反应:CuCl2+4NH3→Cu(NH3)4Cl2在蚀刻过程中,板面上的铜被[Cu(NH3

8、)4]2+络离子氧化,其蚀刻反应如下:Cu(NH3)4Cl2+Cu→2Cu(NH3)2Cl所生成的[Cu(NH3)2]1+为Cu1+的络离子,不具有蚀刻能力。在有过量NH3和Cl-的情况下,能很快地被空气中的O2所氧化,生成具有蚀刻能

当前文档最多预览五页,下载文档查看全文

此文档下载收益归作者所有

当前文档最多预览五页,下载文档查看全文
温馨提示:
1. 部分包含数学公式或PPT动画的文件,查看预览时可能会显示错乱或异常,文件下载后无此问题,请放心下载。
2. 本文档由用户上传,版权归属用户,天天文库负责整理代发布。如果您对本文档版权有争议请及时联系客服。
3. 下载前请仔细阅读文档内容,确认文档内容符合您的需求后进行下载,若出现内容与标题不符可向本站投诉处理。
4. 下载文档时可能由于网络波动等原因无法下载或下载错误,付费完成后未能成功下载的用户请联系客服处理。