本科毕业论文---几种膜系特点及应用研究.doc

《本科毕业论文---几种膜系特点及应用研究.doc》由会员上传分享，免费在线阅读，更多相关内容在学术论文-天天文库。

1、武汉职业技术学院毕业论文几种膜系特点及应用研究摘要薄膜是一种物质形态，它所使用的膜材料非常广泛，可以是单质元素或化合物，也可以是无机材料或有机材料。薄膜与块状物质一样，可以是单晶态的，多晶态的或非晶态的。近年来功能材料薄膜和复合薄膜也有很大发展。镀膜技术及薄膜产品在工业上的应用非常广泛，尤其是在电子材料与元器件工业领域中占有及其重要的地位。镀膜方法可以分为气相生成法，氧化法，离子注入法，扩散法，电镀法，涂布法，液相生长法等。气相生成法又可分为物理气相沉积法，化学气相沉积法和放电聚合法等。真空蒸发，溅射镀膜和离子镀等通常称为物理气相沉积法，是基本的薄膜制备技术。它们都要求淀积薄膜的空间要有一定的

2、真空度。所以，真空技术是薄膜制作技术的基础，获得并保持所需的真空环境，是镀膜的必要条件。真空系统的种类繁多。在实际工作中，必须根据自己的工作重点进行选择。典型的真空系统包括：获得真空的设备（真空泵），待抽空的容器（真空室），测量真空的器具（真空计）以及必要的管道，阀门和其它附属设备。近几年来随着国内高世代液晶面板的兴起，对于上游关键材料如光学膜的需求也大幅增加。光学膜在液晶面板中应用量较大，约占到液晶面板成本的10%左右，以一条8代线总投资200亿元计算，其光学膜的需求就达到20亿元。随着中国电子工业的不断发展，越来越多的世界电子巨头在中国投资设厂，随着世界电子生产基地向中国的转移，目前中国已

3、经成为全球最大的笔记本电脑和手机生产基地，而液晶电视、液晶显示器以及其它电子类产品的产量也位居世界前列。在此带动下，中国扩散膜市场空前发展，目前已占全球市场的近50%。关键词：薄膜；气相生成法；真空蒸发；溅射镀膜；离子镀；真空系统-37-武汉职业技术学院毕业论文目录摘要…………………………………………………………………………………II1.绪论………………………………………………………………………………11.1光学镀膜技术的发展简介…………………………………………………12.基础理论…………………………………………………………………………22.1光学镀膜的特点………………………………………………

4、………22.2热蒸发原理……………………………………………………………62.3电阻蒸发源蒸镀法……………………………………………………62.4电子束蒸发源蒸镀法…………………………………………………72.5电子束蒸发源的特点为………………………………………………72.6高频感应蒸发源的特点………………………………………………82.7激光束蒸发源蒸镀法…………………………………………………82.8离子镀的原理…………………………………………………………82.9多弧离子镀……………………………………………………………92.10多弧离子镀的应用……………………………………………………102.11直流

5、溅射、射频溅射、脉冲溅射和中频溅射………………………102.12自溅射…………………………………………………………………122.13溅射……………………………………………………………………132.14磁控溅射法制模………………………………………………………142.15非平衡磁控溅射（UBMS）……………………………………………152.16脉冲磁控溅射技术（PMS）……………………………………………162.17新型磁控溅射镀膜工艺………………………………………………163.掺锡氧化铟（ITO)………………………………………………………………173.1研究与应用现状存在的问题……………………………

6、……………173.2溶胶2凝胶法…………………………………………………………183.3ITO薄膜表面特性……………………………………………………193.4ITO薄膜的发展………………………………………………………223.5IOT薄膜应用…………………………………………………………233.6开发先进的工艺技术…………………………………………………234.光学薄膜………………………………………………………………………244.1ITO薄膜的应用……………………………………………………………244.2用于平面显示………………………………………………………………244.3用于交通工具风挡……………………

7、……………………………………254.4用于太阳能方面……………………………………………………………254.5真空紫外薄膜………………………………………………………………254.6高激光阈值薄膜……………………………………………………………264.7增光膜、扩散膜……………………………………………………………274.8真空镀膜的发展趋势………………………………………………………295.结论……………