双面研磨机开题报告.doc

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1、一、毕业设计(论文)课题来源、类型本课题来源于一双面研磨机改造科研实践，属于工程设计类题目。二、选题的目的及意义目的：此次主要研究双面研磨机的立柱部分，并进行相关设计。主要内容有：平面磨床的工作原理、双面研磨机总体方案设计、双面研磨机立柱部分设计、研磨压力控制部分设计。意义：我国研磨机市场前景广阔，市场需求巨大：1国家的高度重视和政策优势。2009年初，国家发布并实施装备制造业调整振兴规划将提高我国装备制造业水平和实力提高到国家战略高度，这给机床工具行业的调整振兴指明了方向，为我国机床工具工业的战略调整和产业

2、提供了难得的历史机遇。2下游制造业的迅速发展，给整个机床行业带来强有力的支撑。我国汽车工业，航天航空，铁路，船舶以及下游制造业的迅猛发展对机床产生了巨大需求从而拉动整个机床行业的寻速发展。3与研磨消费密切相关的众多领域的固定资产投资规模的持续增长，将进一步拉动研磨机的市场需求。淘汰落后产能，产业结构调整和产品优化升级已经成为各行业各部门的共识，这将给研磨机企业提供许多的发展机遇。4中高档数控机床是市场需求的主流和重点现在各行各业对研磨机的性能，加工速度精度要求较高虽然其对高速高精度复合柔性多轴和多种联动，高强

3、度等技术性能对于不同行业和不同企业的应用需求各有侧重，但是总的需求趋势是向中高档方向发展。制造业的升级和转型，对于研磨机行业有着深远影响和重大意义。在充分查阅国内外相关资料的基础上，研究和开发具有国际先进水平和自主知识产权平面研磨设备，旨在开发出性价比比较高的超精密平面研磨机，用于陶瓷、磁盘基片、磁头、半导体晶片、光学器件等光电子材料的超精密平面研磨加工。主要对研磨设备设计中的关键问题，包括研磨盘加载变形及受热变形、主轴组件设计、加载系统设计和修盘系统设计等问题进行相关研究，具有非常重要的意义。三、本课题在国

4、内外的研究状况及发展趋势目前代表国内最高水平的北京中国航空精密机械研究所(超精密加工技术国防科技重点实验室)80年代研制的龙门结构式CJY-500超精密平面研磨机床，上下研磨盘用静压油缸推动上磨盘运动，轴向重复定位精度优于0.2µm。在研磨机床上配有金刚石切削机构，可以对研磨盘进行加工。磨盘用金属锡制成时加工平面度可达0.03µm．工件表面粗糙度达0.3nm。浙江工业大学研究的台式智能型纳米级抛光机除采用了常规的修正环在线修整装置、偏心载荷修整工件的平行度外，附加了最佳加工工艺参数专家数据库控制系统和超精密光

5、栅测控技术控制抛光盘转数等技术。通过修正环的旋转可以实时连续的对研磨盘、抛光盘的平面度进行修整，可用于硅片、铌葭锂基片、钽酸锂基片、石英晶体等平面晶体工件的加工。长春理工大学则生产了高速(固结磨料)平面研磨机．主要用于透镜的精磨加工。中科院人工晶体研发中心高宏剐等人研制了FP500型超精密锡磨盘平面研抛机，机床的主体结构例似于小型立车与立式端面磨床的合成，具有超精密车削与超精密研抛两大功能，可以方便地进行基于多种基本原理的超光滑研抛研究。国外精密单面游离磨料研磨机生产商主要有Engis公司、Logiteeh公

6、司、英国LapmasterInternational公司、日本Hitechnoth公司和德国爱孚机械制造公司等。Engis公司是世界上平面研磨、抛光加工的技术领先者，总部设于美国，在日本、加拿大、英国、韩国、新加坡、香港均设有分公司。其中EngisHyprezflatlappingmachines适合于金刚石磨料研磨，预设工厂常用速度：可实现0-440RPM无级变速；2级压力控制，慢停慢启动功能，可以加工各种晶体、半导体基片等。例如：加工GaN6小时后表面粗糙度可达Ra0.39nm；加工YAG90分钟后表面粗

7、糙度可运Ra0.40nm，Rt4.40nm，平面度为150nm/15ram。英国LapmasterInternational公司(莱玛特公司)也是世界知名的先进研磨抛光设备的制造商，主要生产单面、双面研磨抛光机。它生产的单面研磨/抛光机能实现对压电晶体、半导体材料、光学玻璃、光电子晶体、电子陶瓷等金属或非金属的单面研磨或抛光加工，能使加工表面获得较好的平面度和表面粗糙度。四、本课题主要研究内容本主在对研磨机技术的现状以及发展趋势，对研磨机的相关知识有了深入的了解之后，通过大量的查阅资料和文件，进行研磨机的整体

8、结构设计和立柱部分的设计。并且了解研磨机在机械加工中存在的问题，尽量在设计的过程中将其进行优化。别如如何提高机器的寿命，提高研磨效率，提高研磨精度等等。这次毕业设计对设计的研磨机性能指标有如下要求：（1）上下磨盘外径φ600，内径φ300，厚度60mm；两新盘最大距离120mm；（2）最大工件直径160mm；最大工件高度100mm；（3）上下盘转速范围40～120rpm，可无级调速；（4）研磨压力2