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时间:2020-03-10
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1、少子寿命的复合原理及少子与转换效率的关系目录一、复合理论二、少子寿命测试方法及原理三、少子寿命与电池效率的关系一、复合理论所有处在导带中的电子都是亚稳定状态的,并最终会回到价带中更低的能量状态。即必然会跃迁回到一个空的价带能级中。导带电子回到价带的同时也有效地消除了一个空穴。这个过程叫做复合。(1)按复合相关的能级:直接复合间接复合(2)按复合过程发生的位置:体内复合、表面复合(3)按复合时放出能量的方式:辐射复合:发射光子,能量→光子发射声子:发射声子,能量→晶格振动俄歇复合:能量→其它载流子一、复合理论复合分类:概念:电子直接在导带和价带间跃迁而引起的非平衡载流子的复合过程。在辐
2、射复合中,电子与空穴直接在价带结合并释放一个光子。释放的光子的能量近似于禁带宽度,所以吸收率很低,大部分能够飞出半导体。载流子多余的能量是以光子的形式释放的,或者为满足准动量守恒,在发射光子的同时,伴随着发射或吸收声子。1.1直接复合r——电子-空穴的复合概率n0p0——热平衡状态下电子、空穴浓度△p——非平衡载流子浓度大注入条件下,△p>>(n0+p0)少子寿命随非平衡载流子浓度而改变,在复合过程中不再是常数直接复合对窄禁带半导体,和直接禁带半导体,占优势。1.1直接复合概念:电子通过禁带中缺陷、杂质能级的复合复合中心:促进复合过程的杂质和缺陷考虑一种复合中心能级Et,存在四个相关
3、的微观过程。1.2间接复合甲:俘获电子Et从Ec俘获电子乙:发射电子Et上的电子激发到Ec丙:俘获空穴电子从Et进入EV丁:发射空穴价带电子激发到Et上甲乙丙丁通过复合中心的辐射也叫肖克莱-莱德-霍尔或SRH复合,它不会发生在完全纯净的、没有缺陷的半导体材料中。1.2间接复合1.2间接复合n1——费米能级与复合中心重合时导带的平衡电子浓度p1——费米能级与复合中心重合时价带的平衡空穴浓度Nt——复合中心浓度显然:少子寿命τ与复合中心浓度Nt成反比。当Et≈Ei时,U最大,τ=△p/U最小即缺陷能级位置在趋于禁带中部时,载流子的寿命最小,也就是和浅能级相比,深能级是更有效的复合中心。硅
4、晶体中的Cu、Fe、Au等杂质形成的深能级均是有效的复合中心,从而降低硅块/硅片少子寿命。1.2间接复合电子—空穴对净产生速率概念:一个俄歇复合过程有三个载流子参与。载流子从高能级向低能级跃迁,发生电子-空穴对复合时,释放的能量传递给另一个载流子,使该载流子被激发到更高的能级上去,被激发的载流子重新跃迁回低能级时,多于能量以声子形式释放的过程,即非辐射复合,又叫俄歇复合。俄歇复合是重掺杂材料和被加热至高温的材料最主要的复合形式。1.3俄歇复合通常:俄歇复合在窄禁带半导体、高温情况下起重要作用。与杂质、缺陷有关的复合过程,常常是影响半导体发光器件的发光效率的重要因素。1.3俄歇复合概念
5、:指在半导体表面发生的复合过程特点:材料表面的杂质形成禁带中的复合中心能级表面特有的缺陷形成禁带中的复合中心能级是间接复合-的复合机构用间接复合理论来处理1.4表面复合少子寿命与表面复合的关系:假设两种复合独立发生,则总复合概率为:其中:τV、τS——分别为体内、表面的少子寿命,τ——有效寿命1/τS——表面复合概率,1/τV——体内复合概率1.4表面复合二、少子寿命当存在光、电场等外界因素时,热平衡条件被破坏,材料中载流子的浓度将高于n0、p0,称高出部分为非平衡载流子,也称过剩载流子。p型半导体,空穴为非平衡多数载流子,即多子电子为非平衡少数载流子,即少子非平衡载流子的寿
6、命——指非平衡载流子的平均生存时间,用τ表示载流子消失的过程,主要决定于非平衡少数载流子,因此非平衡载流子寿命通常可以用非平衡少数载流子寿命表示,称为少数载流子寿命,简称少子寿命。二、少子寿命测试方法少子寿命测量方法包括非平衡载流子的注入和检测两个基本方面。最常用的注入方法:光注入和电注入。少子寿命测试方法有一下几种:微波光电导衰减法(MW-PCD);准稳态光电导法(QSSPC);表面光电压法(SPV);IR浓度载流子浓度成像(CDI);调制自由载流子吸收(MFcA);光子束诱导电流(LBIC);电子束诱导电流(EBLC)。2.1MW-PCD微波光电导衰减法(MW-PCD/μ-PCD
7、):主要包括激光注入产生电子-空穴对和微波探测信号这两个过程。测试原理:通过测试从样品表面反射的微波功率随时间变化曲线来记录光电导的衰减。优点:不需要绝对测量过剩载流子的大小,而是通过光电导进行相对测量。缺点:当瞬态方法测量短的载流子寿命时,需要快的电子学设备记录非常快的光脉冲和光电导衰减信号。μ-PCD测试得到的是有效少子寿命。影响因素:体寿命和表面寿命。有效少子寿命可由下式表示:其中:τdiff——少子从样品体内扩散到表面所需时间;τsurf——样品表
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