大连半导体超纯水设备,沈阳超纯水设备,莱特莱德水处理设备

《大连半导体超纯水设备,沈阳超纯水设备,莱特莱德水处理设备》由会员上传分享，免费在线阅读，更多相关内容在应用文档-天天文库。

1、大连半导体超纯水设备,沈阳超纯水设备水质：出水水质>15MΩ.cm用途:半导体、集成电路芯片及封装、液晶显示、高精度线路板、光电器件、各种电子器件、微电子工业、大规模、超大规模集成电路需用大量的高纯水、超纯水清洗半成品、成品。集成电路的集成度越高，对水质的要求也越高。目前我国电子工业部把电子级水质技术分为五个行业标准，分别为18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm，以区分不同水质。 超纯水设备,多晶硅超纯水设备,硅片超纯水设备       半导体（semiconductor），指常温下导电性能介于导体与绝缘体之间的材料。半导体材料很多，按化学成分可分为

2、元素半导体和化合物半导体两大类。锗和硅是最常用的元素半导体；化合物半导体包括Ⅲ-Ⅴ族化合物：砷化镓、磷化镓等；Ⅱ-Ⅵ族化合物：硫化镉、硫化锌等；氧化物：锰、铬、铁、铜的氧化物，以及由Ⅲ-Ⅴ族化合物和Ⅱ-Ⅵ族化合物组成的固溶体：镓铝砷、镓砷磷等。除上述晶态半导体外，还有非晶态的玻璃半导体、有机半导体等。新兴的光电材料生产、加工、清洗；液晶显示屏、离子显示屏、高品质灯管显像管、微电子工业、FPC/PCB线路板、电路板、大规模、超大规模集成电路需用大量的高纯水、超纯水清洗半成品、成品。集成电路的集成度越高，对水质的要求也越高，这也对超纯水处理工艺及产品的简易性、自动化程度、生产的连续性、可持续性

3、等提出了更加严格的要求。半导体超纯水设备，超纯水设备，超纯水处理设备，我们公司专业生产反渗透＋EDI超纯水设备，有多年的生产经验，做过各行业的水处理设备，水处理方面我们有丰富的经验。鸾江水处理公司产品具备性能好、价格低于国外同类产品价格、供货及时、售后服务方便快捷等优势。欢迎咨询半导体超纯水设备、超纯水设备。半导体超纯水设备制备工艺：超纯水设备,多晶硅超纯水设备,硅片超纯水设备 　　1、预处理系统→反渗透系统→中间水箱→粗混合床→精混合床→纯水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→抛光混床→精密过滤器→用水点（≥18MΩ.CM）(传统工艺) 　2、预处理→反渗透→中间水箱→水泵→EDI装置→纯化水箱→

4、纯水泵→紫外线杀菌器→抛光混床→0.2或0.5μm精密过滤器→用水点（≥18MΩ.CM）(最新工艺)　　3、预处理→一级反渗透→加药机（PH调节）→中间水箱→第二级反渗透（正电荷反渗膜）→纯水箱→纯水泵→EDI装置→紫外线杀菌器→0.2或0.5μm精密过滤器→用水点（≥17MΩ.CM）(最新工艺)　　4、预处理→反渗透→中间水箱→水泵→EDI装置→纯水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→0.2或0.5μm精密过滤器→用水点（≥15MΩ.CM）(最新工艺)　　5、预处理系统→反渗透系统→中间水箱→纯水泵→粗混合床→精混合床→紫外线杀菌器→精密过滤器→用水点（≥15MΩ.CM）(传统工艺)水质标准：　　

5、半导体超纯水设备，超纯水设备，超纯水处理设备出水水质符合美国ASTM纯水水质标准、我国电子工业电子级水质技术标准（18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm）我国电子工业超纯水水质试行标准、半导体工业用纯水指标、集成电路水质标准。半导体超纯水设备，超纯水设备，超纯水处理设备的应用领域：　　电解电容器生产铝箔及工作件的清洗；　超纯水设备,多晶硅超纯水设备,硅片超纯水设备　电子管生产、显像管和阴极射线管生产配料用纯水；　　黑白显像管荧光屏生产、玻壳清洗、沉淀、湿润、洗膜、管颈清洗用纯水；　　生产液晶显示器的屏面需用纯水清洗和用纯水配液；　　晶体管生产中纯水主

6、要用于清洗硅片；　　集成电路生产中高纯水清洗硅片；　半导体材料、器件、印刷电路板和集成电路用纯水；　　半导体材料、晶元材料生产、加工、清洗；高品质显像管、萤光粉生产；　　　汽车、家电表面抛光处理。 X