四川省蓉城名校联盟2019届高三化学上学期第一次联考试题(含参考答案)

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1、2019届高三化学上学期第一次联考试题可能用到的相对原子质量：H1　C12　O16　F19　Ca407、下列有关化学在日常生活中的应用，说法正确的是　A、生活中常用于消毒的酒精属于纯净物　B、厨房里用食醋去水垢发生了氧化还原反应　C、用热的纯碱溶液和用蒸馏汽油去油污均是化学变化　D、炒菜所用铁锅出现红色的锈斑发生了电化学腐蚀8、NA表示阿伏加德罗常数，下列说法正确的是　A、162g淀粉和纤维素混合物中氧原子的数目为5NA　B、常温时，pH=5的盐酸中水电离的OH－数目为10－9NA　C、5mol的CH3COONa固体溶于水所得溶液中CH3COO－数目为5NA　D

2、、22.4LCl2与足量的铁反应，转移的电子数目为2NA9、丙烯的结构简式如右图所示，下列关于丙烯说法不正确的是　A、能使酸性高锰酸钾溶液褪色　B、至少有1种同分异构体　C、最多6个原子共平面　D、与氯化氢发生加成反应，加成产物可能有两种10、下列实验操作正确的是实验操作A证明某溶液中存在Fe3+先加少量氯水，再滴加KSCN溶液，出现血红色B除去NaCl溶液中存在的Na2SO3向该溶液中加入适量的稀硝酸C分离氢氧化铝和氢氧化镁的混合物将混合物溶于适量氢氧化钠溶液，过滤得Mg(OH)2；向滤液中通入过量氯化氢，过滤得Al(OH)3D制备氢氧化铁胶体将少量饱和FeC

3、l3溶液滴加入沸水中继续煮沸至溶液呈红褐色-9-11、有五种短周期主族元素X、Y、Z、M、Q，它们的原子序数逐渐增大；在周期表中的位置如右图所示，M的电子层数与主族序数相等。下列说法错误的是　A、工业上用电解熔融的Z的氯化物制Z　B、Y和Q的最简单氢化物熔点：YZ>MD、X和Y的最简单氢化物的稳定性：X

4、Cu2++Zn=Cu+Zn2+　D、电子从锌电极经溶液流向铜电极13、已知：pH=-lgc(H+)，pOH=-lgc(OH－)。常温下，向某浓度的盐酸溶液中滴加氨水溶液，所得溶液pOH和pH变化如右图所示。下列说法不正确的是　A、盐酸的初始浓度为0.1mol∙L-1　B、B点溶液和D点溶液水电离的氢氧根离子浓度相等　C、C点溶液中c(NH4+)=c(Cl－)　D、升高温度（高于25℃），滴定过程中pOH+pH<14-9-26．（14分）半导体工业需要高纯硅，粗硅中含有SiO2、Fe2O3、CuO、C等杂质，提纯硅的方法比较多，其中三氯氢硅（有一定毒性）氢还原法和

5、四氯化硅氢还原法应用较为广泛，下面是实验室模拟工业上三氯氢硅氢还原法的基本原理：已知：①Si+3HClSiHCl3+H2（主要反应）Si+4HClSiCl4+2H2（次要反应）2NaCl+H2SO4（浓）Na2SO4+2HCl↑②典型硅的重要化合物的部分性质如下表：熔点（℃）沸点（℃）溶解性SiHCl3-12733易溶于多数有机溶剂SiCl4-2377易溶于多数有机溶剂（1）粗硅在提纯前，需要进行酸、碱预处理，其目的是。（2）下列装置在实验室可用于制备HCl气体的是（填字母代号）。（3）在1100～1200℃条件下，利用图B在石英管中可以获得硅，写出该反应的方程

6、式；其烧杯中水的作用是；该装置使用石英管而不是普通玻璃管的原因是。-9-（4）三氯氢硅氢还原法用SiHCl3在图B中制硅，不足之处有（任意回答一点即可）。（5）SiCl4与氢气反应也能得到硅，但反应所需温度不同，在工业上往往将三氯氢硅中混入的SiCl4分离后再与氢气反应，你认为最好的分离方法是。（6）工业上如果用四氯化硅氢还原法制硅，其原理如下：该方法与用三氯氢硅氢还原法比较，其缺点至少有两处，分别是。27．（15分）Fe是日常生活中最常用的金属之一。回答下列问题：（1）深埋在潮湿土壤中的铁管道，在硫酸盐还原菌（该还原菌最佳生存环境在pH为7～8之间）作用下，能

7、被SO42－腐蚀，其电化学腐蚀原理如下图所示，写出正极的电极反应式。（2）在1800K时，则反应：2Fe3O4(s)+O2(g)=3Fe2O3(s)的∆H为kJ∙mol-1，四氧化三铁在充满氧气的集气瓶中反应生成Fe2O3（填“能”或“不能”）自发进行。（3）Fe3+和I－在水溶液中的反应如下：2I－+2Fe3+2Fe2++I2（在水溶液中）。①298K时，向5mL0.1mol∙L-1的KI溶液中滴加0.1mol∙L-1FeCl3溶液，得到c(Fe2+)与加入FeCl3溶液体积关系如下图所示：-9-该温度下滴加5mLFeCl3溶液时，Fe3+的平衡转化率a=%，

8、平衡常数K=，若要提高F