霍尔槽试片上电流分布的研究

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1、霍尔槽试片上电流分布的研究张宏祥要,本文采用直接测电流法在六种电镀液中测量了容量。毫升的霍尔槽试片上的电流分。,、。!∀进行了修正布根据测得的结果对过去沿用的经验公式中的系数#∀∃%&!∋%()∗∃!&七∗∋+∋!,−.%∃七)∋/∋%)−,−0,∗&∋∋七+1/∋!∃2&∗34%)∋,∗∃七&∗一。∀2七∗−3−0∋+∋∋%&∗∋∋2&&∋3%−3七)∋%∋∃%.!3∋+∃−052++6∋++−07/+∋!.!∋∗七1∗3∃∗89+!七∗34∃−+2七∗−3∃:!∃∋,−3%)∋&∋∃2+七−0%)∋/∋!∃2&一3,∋;!2∋∃−∋∋−∋∋∗∋3∃“!,

2、∋3∋∋&∗∋!∗4%)+0七)00∗毛,∀,∗%)/9=+,0−&/2+!!&∋&∋;∗∃∋,,自>?≅年52++发明霍尔槽试验法以来由于采用此法可以研究镀液各成分和添加剂对镀,Α,,层外观质量的影响选择镀液的合理组成确定适合的工艺条件如电流密度范围操作温度和Α,95值等帮助分析镀液产生故障的原因特别是对使用一般化学分析法难以解决的微量杂,,。,质或有机添加剂对镀层的影响等既简便迅速又经济因此霍尔槽在电镀工艺试验和维。。,护正常生产中得到广泛的应用在Β!%∃−发明了用霍尔槽测定分散能力的方法后由于。操作简便也被广泛使用、,。关于霍尔槽的理论试验装置和使用方法在不少书籍及文献中都

3、有论述在霍尔槽试。验中很重要的一点是确定试片上各点的电流密度一般的7毫升霍尔槽试片上的电流密度Χ分布按照下列经验公式计算∗二ΔΕ>7一Φ+−4Γ<,∗与最低端∗和实但在实践中发现按该公式计算出的最高端际上所能达到的有较大差,。,别而且公式本身也存在缺点在国外有不少学者在这方面做了大量工作并提出了对该公式。,。的修正本文也在这方面做了一些工作对霍尔槽试片上电流分布公式的修正做了一点探讨霍尔槽的规格、、、,一般常用的霍尔槽的容量有7毫升ΗΙ毫升≅7毫升≅Φ毫升和>77毫升等几种。,见图>由于后二种规格的霍尔槽使用得远不如前三种广泛而本文的试验中只研究了在7,>7,毫升霍

4、尔槽试片上的电流分布而对≅Φ毫升和7毫升的未做工作这里就不再叙述它们天津大学应用化学系一Ι一了。、。毫升ΗΙ毫升和≅。毫升霍尔槽的形状和尺寸是一样的,只是液面的高度不同。Ε见图><ΗΙ毫升霍尔槽在美国广泛使用,因为在ΗΙ毫升溶液中加人克药品可配。制成>盎斯ϑ美国加仑浓度的溶液在≅即容量液面高毫升溶液中加人克药品则配制成>盎斯ϑ7毫开Φ>勺Φ叮ΝΗ‘,。,,英国加仑浓度的溶液所以在英国广泛使用ΗΙ饭,≅7在德国的Κ户丁7?Ι中规定使用7毫升霍尔,日本也采用,槽这一规定是因为这两个国、家。图>各种留尔槽的形状和尺寸Ε毫米<使用的是6ΛΜΕ厘米一克一秒<制单位,,

5、。在我国由于使用的单位制也是6Λ弓所以大家也都习惯于使用7毫升的霍尔槽霍尔槽试片上的电流分布Χ、、初霍尔槽试片上的电流分布是通过对常用的四种镀液酸性镀铜酸性镀镍氰化镀某,。镐和氰化镀锌在不同强度电流下进行试验首先测出霍尔槽试片上跪高电流密度端不同距离,,上几个点的电极电位再根据相应镀种的极化曲线求得相应的电流密度然后绘制出电流与距高电流密度端距离的关系曲线。Χ根据四个镀种所求得的平均值得出如下的经验公式∗ΟΔΕ!一∀+−4Γ<Χ∗Α式中一霍尔槽试片上某一点的电流密度Δ,一通过霍尔槽的电流强度、。∀一系数Α。Γ一该点到高电流密度端的距离。在通常使用的公式中!二ΔΠ>?,∀Ο

6、Φ7>它们的适用范围规定为。ΗΘΓΘΝ≅Ε厘。!,,。,米<由于∀Ρ当Γ二?厘米时计算出的∗为负值而在大多数镀种的霍尔槽试片上。,。在ΓΡ?厘米的部位仍镀上了金属显然按此公式计算出的∗与实际不符,!、,。为此国外不少学者通过实验对该公式中的系数∀提出了修正见表>表>霍尔槽试片上电流密度分布计算公式一Σ一’Χ一一纂一一ΣΣ一兰遗鱼一主一三业一⋯⋯∋··−·鲤·ΜΤ一‘一“‘一”Η4Γ,”ΗΘΓΘΝ≅,2∃=∗>··−··ΚΔΥΜς?Ι‘二“‘7一”Φ‘4Γ,”ΗΘΓΘΝ”⋯⋯!‘“Π3Ο·。Ν·−Β+‘‘Ε‘一≅?Η‘4Γ<>“ς2∃∃,Π‘ΩΩ‘Ο“≅·”Η一≅·‘Ν−4

7、Γ,⋯<>Ξ····一‘“‘ΕΦΦΦ一Φ‘−4Γ<””ΘΓΘΝ”一壁卫卫垫生一一ΨΨ一县”霍尔槽试片上电流的测量,本试验采用直接测量电流的方法测出一。Χ霍尔槽试片上的电流分布使用的镀液有、,,氰化镀铜焦磷酸盐镀铜普通镀镍镀光,,⋯而而洲亮镍碱性锌酸盐镀锌氨三乙酸一氯化钱。Ω镀锌等六种溶液通过霍尔槽的电流强度为ΧΩΧ。>。安培和安培试片用Ζ7又Ι7毫米的敷,用腐铜板蚀法将铜箔分为相互绝缘的>7等⋯,,。Ψ份每份宽>厘米见图将各份连人测Ψ=Ψ⋯⋯⋯川,,、量线

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