(人教版):10讲无机非金属材料的主角——硅

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1、第十讲无机非金属材料的主角——硅(时间:45分钟满分:100分)考点题号硅及其化合物的性质2、5、6、7、8、9、11无机非金属材料k3、4、10一、选择题(本题共7个小题,每题6分,共42分,每个小题只有一个选项符合题意)t2012年我国载人飞船再次升空,显示出我国航天技术已进入世界一流。飞船应用了许多尖端的合成材料。据报道我国科学家近年来研制出一种新型“连续纤维增韧”航空材料,其主要成分是由碳化硅、陶瓷和碳纤维复合而成的。下列相关叙述不正确的是()oA.它耐高温抗氧化B.它比钢铁轻、硬,但质地较脆C.它没有固定熔点D.它是一

2、种新型无机非金属材料u2.硅作为一种新型能源被广泛开发利用,关于其有利因素的下列说法中,你认为不正确的是()。A.硅燃烧产物对环境产生的污染,容易得到冇效控制B.从Si(s)+O2(g)^=SiO2(s)A//=-858.6kJ•moL可知,硅燃烧放出的热量多C.自然界屮硅的储量丰富,可以从自然界直接获得单质硅D.硅便于运输、贮存,从安全角度考虑,硅是最佳的燃料之一"3.下列关于工业生产的说法中,不正确的是()0A.T业上,用焦炭在电炉屮还原二氧化硅得到含杂质的粗硅B.生产普通水泥的主要原料冇石灰石、石英和纯碱C.工业上将粗铜进

3、行精炼,应将粗铜连接在电源的正极D.硅和铁可以冶炼成合金"4・寿山石主要成分为叶蜡石,叶蜡石组成为AI2O3・4Si02・£0,下列观点不正确的是()。A.寿山石雕刻作品耍避免打酸、碱接触B.寿山石颜色丰富多彩是因为含有不同形态的金属氧化物C.潮湿的空气可能导致寿山石作品表面溶解变质D.置于T燥空气中可能会导致寿山石作甜脱水变质v5.硅及其化合物的应用范围很广。下列说法疋确的是()。A.硅是人类将A阳能转换为电能的常用材料B.粗硅制备单晶硅不涉及氧化还原反应C.反应:Si+2Na0H+H20=Na2Si03+2H2t中,Si为还

4、原剂,NaOH和出0为氧化剂D.硅能与氢氟酸反应,则硅可以与盐酸反应vi6.将足最C0?气体通入水玻璃(Na2SiO3溶液)屮,然后加热蒸干,再在高温下充分灼烧,最后所得的固体物质是()。A.Na2SiO3B.N^CO:,、Na2SiO3C・NazCO,SiO2D・SiO2vii7.有一粗硅,含杂质铁,取等质量的样品分别投入足聚的稀盐酸和足量的稀•氢氧化钠溶液中,放出等量的也,则该粗硅中铁和硅的关系正确的是(提示:Si+2NaOH+H2O=Na2SiO3+2H-,t)()。A.物质的屋Z比为:1:1B.物质的量之比为1:2C.质

5、量之比为4:1D.质量Z比为2:1二、非选择题(本题共4个小题,共58分)viil8.(12分)如何除去下列各粉末状混合物屮的杂质(括号内为杂质),请选用下面提供的试剂和操作,将标号填在表内。供选试剂:A.盐酸B.烧碱溶液C.氧气D.水E.C02F.不用其他试剂供选操作:①加热②加热熔融③过滤④结品含杂质的物质所加试剂主要操作(l)SiO2(NaHCO:J(2)SiO2(CaCO3)(3)SiO,Si)(4)NaCl(SiO2)ix9.(16分)如图所示物质的转化关系屮,A是一种固体单质,E是一种白色沉淀。请回答下列问题:(1)

6、b的化学式是,ri前b已被用作的主要原料。(2)B和a溶液反应的离子方程式是(3)A和a溶液反应的离子方程式是(4)C和过量的盐酸反应的离子方程式是TO.(16分)含A元素的一种单质是一种重要的半导体材料,含A元素的一种化合物C可用于制造高性能的现代通讯材料一一光导纤维,C与烧碱反应生成含A元素的化合物Do(1)在元索周期表中,A位于族,与A同族但相对原子质量比A小的元素B的原了结构示意图为,A与B在原子的电子层结构上的相同点是(2)易与C发主化学反应的酸是,反应的化学方程式是。(3)将C与纯碱混合高温熔融时也发生化学反应生成D

7、,同时还生成B的最高价氧化物E;将全部的E与全部的D在足量的水中混合后,乂发牛.化学反应牛.成含A的化合物F。①分別写出生成D和F的化学反应方程式:②要将纯碱高温熔化,下列坏圳中不可选用的是()A.普通玻璃堆竭B.石英玻璃堆堀C.氧化铝丄廿焰D.铁土廿竭(4)100gC与石灰石的混合物充分反应后,生成的气体在标准状况下的体积为11.2L,100g混合物中石灰石的质量分数是oxill.(14分)在工业中利用镁制収硅:2Mg+SiO2^^2MgO+Si,同吋有副反应发牛::2Mg+Si^^Mg2Si,Mg2Si遇盐酸迅速反应牛成Si

8、H,硅烷),SiHi在常温下是一-种不稳定、易分解的气体。如图是进行Mg与Si(h反应的实验装置:(1)由于氧气的存在对该实验有较人影响,实验中应通入气体X作为保护气,试管屮的固体药品可选用(填序号)。a.石灰石b.锌粒c.纯碱⑵实验开始时,必须先通入X气体,再

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